沈阳某光电器件存储芯片研发厂，晶圆鑫霖环保进程中形成含硅、氟的个性化污污废水 ，设汁操作建设规模1200吨/日。污污废水 材料错综复杂，包含的納米级硅颗粒物及氢佛酸，中国传统操作步骤易于达到。 废气因素及来源地 主要环境废弃物 ：橡胶胶体部分硅（100-500nm颗粒直径）、氟化合物（200-300mg/L）、异丙醇 种类生产工艺 ：晶圆刻蚀生产生产废水（45%）、CMP催化机械装备抛光处理生产生产废水（40%）、专用设备冲刷水（15%） 处置新工艺具体步骤 创新发展采用了"无机化学沉淀物中+特种工艺膜剥离 "技木自驾线路： 钙盐奠定 ：添加氯化钙清理氟铁离子（自动生成CaF2结晶） 斜管沉淀池发生反应 ：结合斜板沉淀池剂保证 溶液硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm孔经膜挪作他用微细顆粒 反融于系统软件 ：脱盐率>98%，回报率75% 减压蒸馏析出 ：浓水段实行氟化物零废气排放 最后目的 氟化物盐浓度：<8mg/L（如果低于部委3级标准规范10mg/L） 硅水平：<5mg/L 水环境共享使用率：70%应用在加热塔补水保湿 危险废物减轻药量：蒸馏残留量较常用新工艺避免60%