某半导体行业加工各个企业因晶圆的清洗工艺引起含氨污水，发电量200吨/天。污自来水中除氧化还原电位外还带有氟化物和轻微巨资属，补救麻烦大。偏远地区排放物规定想要氧化还原电位＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 废污水成分表及特征 晶圆清洁废污水（主要的起源）：含挥发酚200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀工作工业废水：含氢化物发生器铜、镍等血本属，pH值上下波动大 CMP磨研污废水 ：含硅颗料及氯离子 解决制作工艺工艺设计 选择"电化学沉垫+膜脱离+折点氯化"组合式施工工艺： 预加工处理 ：污泥脱水CaCl2除氟，操控pH在7.5-8. 反渗透装置操作系统 ：清掉0.01μm以上的颗粒状物 反渗浸提 ：将高锰酸盐指数浸提至1000mg/L之内 折点氯化 ：明确操控氯污泥脱水量，将氯离子有效的转化为氢气 阴阳离子交換 ：后勤保障天价属未达标 最终能够感觉 挥发酚安稳＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 巨资属含水量如果低于查重限 水回收率达75% 污泥处理形成量减轻40%