创业项目时代背景 昆明某半导体行业厂种植具体步骤中另外引起高硅化工电镀废水处理方法（SiO₂ 500-800mg/L）和含氟化工电镀废水处理方法（F⁻ 200-300mg/L）。每种化工电镀废水处理方法融合时易生成氟硅酸固体，过去化学积累法很难动态平衡符合条件。投资项目需要微信同步快速清理硅和氟（的排放条件：SiO₂≤30mg/L，F⁻≤10mg/L）。 电镀废水组成成分及来原 具体物质 ：硅酸氢钠（NaHSiO₃）、氟化铵（NH₄F）、异丙醇 的来源 ：晶圆刻蚀焦化废水处理、CMP精磨焦化废水处理、生产设备擦拭水 进行处理工序方法 一体化放置时段 ： 二级反應池 ： 一级添加Ca(OH)₂添加CaF₂和CaSiO₃沉淀物； 然后级加药系统PAC（聚合反应氯化铝）升星斜板沉淀池。 固液区分第一阶段 ： 反渗透装置平台 ：进行0.02μm孔的直径膜配置文件截流胶体溶液硅和微细水解物。 深层次脱氟价段 ： 气体吸附性防三氧化二铝气体吸附塔 ：残留物氟亚铁离子吸附性洗去。 结果是作用 出水量SiO₂≤25mg/L，F⁻≤8mg/L，远远高于政府标。 超滤膜设备通量动态平衡在15LMH，有机化学的清洗阶段延伸至60天。 淤泥经压滤后含水量率＜65%，可按普通固体废弃物处里。